Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron ...
| ELIÁŠ, Marek, Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA. Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering. In Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry. Brno: Masaryk University, 2008, s. 105. |
|
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
| Základní údaje | |
|---|---|
| Originální název | Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering |
| Název česky | Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním |
| Autoři | ELIÁŠ, Marek (203 Česká republika), Pavel SOUČEK (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant). |
| Vydání | Brno, Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry, s. 105-105, 2008. |
| Nakladatel | Masaryk University |
| Další údaje | |
|---|---|
| Originální jazyk | angličtina |
| Typ výsledku | Stať ve sborníku |
| Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
| Stát vydavatele | Česká republika |
| Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
| Kód RIV | RIV/00216224:14310/08:00025120 |
| Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
| Klíčová slova anglicky | hybrid deposition process; hysteresis |
| Štítky | hybrid deposition process, hysteresis |
| Změnil | Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 23. 12. 2008 11:07. |
| Anotace |
|---|
| Influence of N2 and CH4 on deposition rate of boron based thin films prepared by magnetron sputtering, proceeding |
| Anotace česky |
|---|
| Vliv N2 a CH4 na depozicní rychlos borových vrstev připravených magnetronovým naprašováním, sborník |
| Návaznosti | |
|---|---|
| GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
| Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
| MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
| Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek | |
VytisknoutZobrazeno: 8. 5. 2024 21:06