SCHMIDTOVÁ, Tereza, Petr VAŠINA a Marek ELIÁŠ. Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density. Chemické Listy. 2008, roč. 102, č. 1, s. s1376-s1379, 4 s. ISSN 1803-2389.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density
Název česky Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu
Autoři SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant) a Marek ELIÁŠ (203 Česká republika).
Vydání Chemické Listy, 2008, 1803-2389.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/08:00025121
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000208452600016
Klíčová slova anglicky reactive magnetron sputtering
Štítky reactive magnetron sputtering
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 27. 3. 2010 09:28.
Anotace
Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density, paper, interdisciplinary study of plasma physics, magnetron discharges
Anotace česky
Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu, článek, mezioborova studie
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 19. 9. 2024 07:57