J 2008

Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density

SCHMIDTOVÁ, Tereza; Petr VAŠINA a Marek ELIÁŠ

Základní údaje

Originální název

Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density

Název česky

Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu

Autoři

Vydání

Chemické Listy, 2008, 1803-2389

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/08:00025121

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

Klíčová slova anglicky

reactive magnetron sputtering

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 27. 3. 2010 09:28, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density, paper, interdisciplinary study of plasma physics, magnetron discharges

Česky

Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu, článek, mezioborova studie

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek