D 2009

Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process

VAŠINA, Petr a Pavel DVOŘÁK

Základní údaje

Originální název

Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process

Název česky

Vyssi harmonicke frekvence jako ukazatel stavu reaktivniho magnetronoveho depozicniho procesu

Autoři

Vydání

Bratislava, Book of Contributed Papers of 17th Symposium on Applications of Plasma Processes, s. 253-253, 2009

Nakladatel

Comenius University in Bratislava

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Slovensko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/09:00029205

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-89186-45-7

Klíčová slova anglicky

reactive sputtering

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 20. 2. 2009 20:17, prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

Higher harmonic frequencies of discharge voltages as extremely sensitive marker of state of RF reactive sputtering deposition process, proceeding

Česky

Vyssi harmonicke frekvence jako ukazatel stavu reaktivniho magnetronoveho depozicniho procesu, konferenční sborník

Návaznosti

GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek