2008
Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces
LEHOCKÝ, Marian; Pavel SŤAHEL; Marek KOUTNÝ; Jan ČECH; Jakub INSTITORIS et al.Základní údaje
Originální název
Adhesion of Rhodococcus sp. S3E2 and Rhodococcus sp. S3E3 to plasma prepared Teflon-like and organosilicon surfaces
Název česky
Adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k plazmatem připravenému teflonu podobnému povrchu a organosilikonovým povrchům
Autoři
Vydání
Journal of Materials Processing Technology, Elsevier B.V. 2008, 0924-0136
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Nizozemské království
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 1.143
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/08:00025315
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
Klíčová slova anglicky
Rhodococcus; Plasma deposition; Cell adhesion; Barrier discharge; Thin films
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 1. 2014 11:27, doc. Mgr. Jan Čech, Ph.D.
V originále
Investigation of Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 adhesion to hydrophobic teflon like films and organosilicon films deposited on the paper substrate.
Česky
Studium adheze Rhodococcus SP.S3E2 and Rhodococcus SP.S3E3 k hydrofobním teflonu podobným vrstvám a organosilikonovým vrstvám deponovaným na papír.
Návaznosti
| GA202/05/0777, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|