NEČAS, David, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Daniel FRANTA, Pavel SŤAHEL, Petr MIKULÍK, Mojmír MEDUŇA and Miroslav VALTR. Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films. e-Journal of Surface Science and Nanotechnology. Tokyo: The Surface Science Society of Japan, 2009, vol. 7, březen, p. 486-490. ISSN 1348-0391.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Optical Characterization of Ultra-Thin Iron and Iron Oxide Films
Name in Czech Optická charakterizace ultratenkých vrstev železa a kysličníků železa
Authors NEČAS, David (203 Czech Republic, belonging to the institution), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Daniel FRANTA (203 Czech Republic, belonging to the institution), Pavel SŤAHEL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Petr MIKULÍK (203 Czech Republic), Mojmír MEDUŇA (203 Czech Republic, belonging to the institution) and Miroslav VALTR (203 Czech Republic).
Edition e-Journal of Surface Science and Nanotechnology, Tokyo, The Surface Science Society of Japan, 2009, 1348-0391.
Other information
Original language English
Type of outcome Article in a journal
Field of Study 10302 Condensed matter physics
Country of publisher Japan
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
RIV identification code RIV/00216224:14310/09:00028505
Organization unit Faculty of Science
Keywords (in Czech) železo; kysličník železa; elipsometrie; spektrofotometrie; odrazivost Röntgenových paprsků
Keywords in English iron; iron oxide; thin films; ellipsometry; spectrophotometry; X-ray reflection
Tags ellipsometry, Iron, iron oxide, Spectrophotometry, thin films, X-ray reflection
Tags International impact, Reviewed
Changed by Changed by: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Changed: 27/3/2013 09:17.
Abstract
Ultra-thin films of 57Fe deposited on silicon substrates and SiOxCyHz support layers and subsequently oxidized in laboratory atmosphere are studied by two optical methods: the combination of UV/VIS/NIR spectroscopic ellipsometry and spectrophotometry, used to find layer thicknesses and optical constants, and X-ray specular reflectometry, used to obtain the electron density depth profile. The results of both methods are compared and found to be in a relatively good agreement.
Abstract (in Czech)
Velmi tenké vrstvy 57Fe připravené na křemíkových podložkách a podpůrných vrstvách z SiOxCyHz a následně okysličené v laboratorní atmosféře jsou studovány pomocí dvou optických metod: kombinace UV/vis/NIR spektroskopické elipsometri a spektrofotometrie, použité k nalezení tloušťek a optických konstant, a odrazivosti Röntgenových paprsků, použité k získání profilu elektronové hustoty. Výsledky obou metod jsou srovnány a shledány býti v poměrně dobré shodě.
Links
KAN311610701, research and development projectName: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie
Investor: Academy of Sciences of the Czech Republic
MSM0021622410, plan (intention)Name: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Physical and chemical properties of advanced materials and structures
MSM0021622411, plan (intention)Name: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR, Study and application of plasma chemical reactions in non-isothermic low temperature plasma and its interaction with solid surface
PrintDisplayed: 21/5/2024 19:31