D 2008

Composition and functional properties of organosilicon plasma polymers from hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane

ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Zuzana KUČEROVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA, Vratislav PEŘINA et. al.

Základní údaje

Originální název

Composition and functional properties of organosilicon plasma polymers from hexamethyldisiloxane and octamethylcyclotetrasiloxane

Název česky

Složení a funkční vlastnosti organosilikonových polymerů vytvářených z hexamethyldisiloxanu a octamethylcyclotetrasiloxanu

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Zuzana KUČEROVÁ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Daniel FRANTA, Vratislav PEŘINA a Anna MACKOVÁ

Vydání

WARRENDALE, ORGANIC/INORGANIC HYBRID MATERIALS - 2007, od s. 159-164, 6 s. 2008

Nakladatel

MATERIALS RESEARCH SOCIETY

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-1-55899-967-1

ISSN

UT WoS

000256796400019

Klíčová slova anglicky

THIN-FILMS; HYBRID; DEPOSITION; SILICA; MODEL

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 27. 3. 2013 09:19, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

Hybrid organic-inorganic thin films with different fractions of silicon oxide were deposited in rf capacitively coupled discharges using pure hexamethyldisiloxane (HMDSO), octamethylcyclotetrasiloxane (D4) or 5 % HMDSO in O-2. The deposition in continuous wave (cw) mode was compared with pulsed conditions under which the discharge on-time was 5 ms and the off-time varied from 0.5 to 15 ms. The chemical composition of the films was studied by FTIR, RBS and ERDA. Their optical properties in UV/visible/NIR were determined from spectroscopic ellipsometry and reflectance measurements fitted with a Kramers-Kronig consistent dispersion model based on a parametrization of density of states. Film hardness and reduced modulus were determined from depth sensing indentation tests.

Česky

Hybrid organic-inorganic thin films with different fractions of silicon oxide were deposited in rf capacitively coupled discharges using pure hexamethyldisiloxane (HMDSO), octamethylcyclotetrasiloxane (D4) or 5 % HMDSO in O-2. The deposition in continuous wave (cw) mode was compared with pulsed conditions under which the discharge on-time was 5 ms and the off-time varied from 0.5 to 15 ms. The chemical composition of the films was studied by FTIR, RBS and ERDA. Their optical properties in UV/visible/NIR were determined from spectroscopic ellipsometry and reflectance measurements fitted with a Kramers-Kronig consistent dispersion model based on a parametrization of density of states. Film hardness and reduced modulus were determined from depth sensing indentation tests.

Návaznosti

MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
1K05025, projekt VaV
Název: Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou