2009
Photochemistry of 2-Nitrobenzylidene Acetals
ŠEBEJ, Peter; Tomáš ŠOLOMEK; Ľubica HROUDNÁ; Pavla BRANCOVÁ; Petr KLÁN et. al.Základní údaje
Originální název
Photochemistry of 2-Nitrobenzylidene Acetals
Název česky
Fotochemie 2-nitrobenzyliden acetalů
Autoři
ŠEBEJ, Peter (703 Slovensko); Tomáš ŠOLOMEK (703 Slovensko); Ľubica HROUDNÁ (703 Slovensko); Pavla BRANCOVÁ (203 Česká republika) a Petr KLÁN (203 Česká republika, garant)
Vydání
Journal of Organic Chemistry, Columbus, OH, USA, the American Chemical Society, 2009, 0022-3263
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10401 Organic chemistry
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 4.219
Kód RIV
RIV/00216224:14310/09:00029556
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000271662500018
Klíčová slova anglicky
Photochemistry; Photoremovable protecting groups
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 13. 11. 2009 14:41, prof. RNDr. Petr Klán, Ph.D.
V originále
Photolysis of dihydroxy compounds (diols) protected as 2-nitrobenzylidene acetals (ONBA) and subsequent acid- or base-catalyzed hydrolysis of the 2-nitrosobenzoic acid ester intermediates result in an efficient and high-yielding release of the substrates. We investigated the scope and limitations of ONBA photochemistry and expanded upon earlier described two-step procedures to show that the protected diols of many structural varieties can also be liberated in a one-pot procedure. In view of the fact that the acetals of nonsymmetrically substituted diols are converted into one of the corresponding 2-nitrosobenzoic acid ester isomers with moderate to high regioselectivity, the mechanism of their formation was studied using various experimental techniques. The experimental data were found to be in agreement with DFT-based quantum chemical calculations that showed the preferential cleavage occurs on the acetal C-O bond in the vicinity of more electron-withdrawing (or less electron-donating) groups. The study also revealed considerable complexity in the cleavage mechanism and that the structural variations in the substrate can significantly alter the reaction pathway. This deprotection strategy was found to be also applicable for 2-thioethanol when released from the corresponding monothioacetal in the presence of a reducing agent, such as ascorbic acid.
Česky
Článek popisuje fotolýzu dihydroxy sloučenin (diolů), které jsou chráněny jako 2-benzylidinacetaly a následnou kyselou nebo bazickou hydrolýzu za uvolnění chráněného substrátu.
Návaznosti
| GA203/09/0748, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622413, záměr |
|