2009
Spectroscopic ellipsometry and polarimetry for materials and systems analysis at the nanometer scale: state-of-the-art, potential, and perspectives
LOSURDO, Maria, Michael BERGMAIR, Giovanni BRUNO, D. CATELLAN, C. COBET et. al.Základní údaje
Originální název
Spectroscopic ellipsometry and polarimetry for materials and systems analysis at the nanometer scale: state-of-the-art, potential, and perspectives
Název česky
Spektroskopická elipsometrie a polarimetrie materiálů and systémová analýza na nanometrové škále: současný stav, potenciál a perspektivy
Autoři
LOSURDO, Maria (380 Itálie), Michael BERGMAIR (40 Rakousko), Giovanni BRUNO (380 Itálie), D. CATELLAN (250 Francie), C. COBET (203 Česká republika), A. DE MARTINO (250 Francie), K. FLEISCHER (276 Německo), Z. DOHCEVIC-MITROVIC (688 Srbsko), N. ESSER (276 Německo), M. GAILLET (250 Francie), R. GAJIC (688 Srbsko), Dušan HEMZAL (203 Česká republika, domácí), K. HINGERL (40 Rakousko), Josef HUMLÍČEK (203 Česká republika, garant, domácí), R. OSSIKOVSKI (250 Francie), Z.V. POPOVIC (688 Srbsko) a O. SAXL (826 Velká Británie a Severní Irsko)
Vydání
Journal of Nanoparticle Research, Dordrecht, Springer Netherlands, 2009, 1388-0764
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Nizozemské království
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 2.478
Kód RIV
RIV/00216224:14310/09:00037726
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000270543100001
Klíčová slova česky
Spektroskopická elipsometrie; Polarimetrie; Nanomateriály; Nanočástice.
Klíčová slova anglicky
Spectroscopic ellipsometry; Polarimetry; Nanomaterials; Nanoparticles; Thin films; Optical characterization; Nanometrology.
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 10. 1. 2011 11:06, prof. RNDr. Josef Humlíček, CSc.
V originále
This paper discusses the fundamentals, applications, potential, limitations, and future perspectives of polarized light reflection techniques for the characterization of materials and related systems and devices at the nanoscale. These techniques include spectroscopic ellipsometry, polarimetry, and reflectance anisotropy. We give an overview of the various ellipsometry strategies for the measurement and analysis of nanometric films, metal nanoparticles and nanowires, semiconductor nanocrystals, and submicron periodic structures. We show that ellipsometry is capable of more than the determination of thickness and optical properties, and it can be exploited to gain information about process control, This paper discusses the fundamentals, applications, potential, limitations, and future perspectives of polarized light reflection techniques for the characterization of materials and related systems and devices at the nanoscale.
Česky
Tato práce diskutuje základy, aplikace, potenciál, omezení a perspektivy polarizačních reflexních technik pro charakterizaci materiálů a systémů na nanometrovém měřítku.
Návaznosti
MSM0021622410, záměr |
|