Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering ...
| DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINA. Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process. In Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry. 2009. |
|
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
| Základní údaje | |
|---|---|
| Originální název | Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process |
| Název česky | Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu |
| Autoři | DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí). |
| Vydání | Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry, 2009. |
| Další údaje | |
|---|---|
| Originální jazyk | angličtina |
| Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
| Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
| Stát vydavatele | Německo |
| Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
| Kód RIV | RIV/00216224:14310/09:00049600 |
| Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
| Klíčová slova česky | higher harmonics; reactive sputtering |
| Klíčová slova anglicky | vyšší harmoniky; reaktivní naprašování |
| Štítky | IK, rivok |
| Příznaky | Mezinárodní význam, Recenzováno |
| Změnil | Změnil: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Změněno: 12. 4. 2012 10:46. |
| Anotace |
|---|
| Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process - proceeding |
| Anotace česky |
|---|
| Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu - sborník |
| Návaznosti | |
|---|---|
| GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
| Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
| MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
| Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek | |
VytisknoutZobrazeno: 27. 4. 2024 03:11