Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering ...
DVOŘÁK, Pavel a Petr VAŠINA. Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process. In Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry. 2009. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process |
Název česky | Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu |
Autoři | DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí). |
Vydání | Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry, 2009. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | angličtina |
Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
Stát vydavatele | Německo |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Kód RIV | RIV/00216224:14310/09:00049600 |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
Klíčová slova česky | higher harmonics; reactive sputtering |
Klíčová slova anglicky | vyšší harmoniky; reaktivní naprašování |
Štítky | IK, rivok |
Příznaky | Mezinárodní význam, Recenzováno |
Změnil | Změnil: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Změněno: 12. 4. 2012 10:46. |
Anotace |
---|
Higher harmonics of discharge voltage as tool to control accurately state of RF sputtering deposition process - proceeding |
Anotace česky |
---|
Přesná kontrola depozičního procesu pomocí vyšších harmonických frekvencí potenciálu plazmatu - sborník |
Návaznosti | |
---|---|
GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
VytisknoutZobrazeno: 15. 10. 2024 07:36