VAŠINA, Petr a Tereza SCHMIDTOVÁ. Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously. In Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry. 2009.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously
Název česky Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny
Autoři VAŠINA, Petr (203 Česká republika, garant, domácí) a Tereza SCHMIDTOVÁ (203 Česká republika, domácí).
Vydání Proceeding of 19th International Symposium on Plasma Chemistry, 2009.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/09:00049601
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky reaktivní naprašování
Klíčová slova anglicky reactive magnetron sputering; target; modeling
Štítky IK, rivok
Změnil Změnila: Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D., učo 151253. Změněno: 5. 4. 2012 14:18.
Anotace
Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously, proceeding
Anotace česky
Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny, sborník
Návaznosti
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 4. 5. 2024 18:53