a 2010

Diagnostics of reactive magnetron sputtering

VAŠINA, Petr; Pavel DVOŘÁK a Tereza SCHMIDTOVÁ

Základní údaje

Originální název

Diagnostics of reactive magnetron sputtering

Název česky

Diagnostika reaktivního magnetronového naprašování

Vydání

37th EPS Conference on Plasma Physics - abstracts, 2010

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/10:00044281

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

plazma; vyšší harmonické frekvence; reaktivní magnetronové naprašování

Klíčová slova anglicky

plasma; higher harmonic frequencies; reactive magnetron sputtering
Změněno: 4. 1. 2011 09:35, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.

Anotace

V originále

Monitoring of reactive magnetron sputtering by means of measurement of higher harmonic frequencies of discharge voltages.

Česky

Monitorování reaktivního magnetronového naprašování pomocí měření vyšších harmonických frekvencí napětí.

Návaznosti

GA202/07/1669, projekt VaV
Název: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích
GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek