Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline
diamond films prepared in dual frequency discharges

J 2010

Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges

KARÁSKOVÁ, Monika; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Daniel FRANTA; David NEČAS et al.

Základní údaje

Originální název

Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges

Autoři

KARÁSKOVÁ, Monika; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Daniel FRANTA; David NEČAS; Olga BLÁHOVÁ a Jiří ŠPERKA

Vydání

Surface & coatings technology, Elsevier Science, 2010, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 2.141

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/10:00040570

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000275692100026

Klíčová slova anglicky

ultrananocrystalline diamond; bias enhanced nucleation; indentation hardness; ellipsometry; FTIR

Změněno: 27. 3. 2013 09:11, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Anotace

V originále

Ultrananocrystalline diamond (UNCD) films were deposited directly on polished c-Si substrates in microwave discharge (2.45 GHz) combined with rf capacitive plasma (13.56 MHz) ignited at the substrate electrode. The rf discharge induced a dc self-bias accelerating ions towards the growing film during the whole deposition process. The substrate was either preheated in hydrogen discharge to the deposition temperature of 900 C or the deposition of intermediate layer started at about 200 C and reached 900 C in the 5th minute. The latter procedure resulted in the deposition of coating with the hardness of 70 GPa and very good fracture toughness. The analysis of optical measurement in UV-IR range confirmed the presence of 250 nm thick intermediate layer containing DLC and SiC materials.

Návaznosti

GA202/07/1669, projekt VaV

Název: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích

Investor: Grantová agentura ČR, Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích

KAN311610701, projekt VaV

Název: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie

Investor: Akademie věd ČR, Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie

MSM0021622411, záměr

Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Citovat

KARÁSKOVÁ, Monika; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Daniel FRANTA; David NEČAS; Olga BLÁHOVÁ a Jiří ŠPERKA. Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges. Surface & coatings technology. Elsevier Science, 2010, roč. 204, 12-13, s. 1997–2001. ISSN 0257-8972.

@article{895715,
   author = {Karásková, Monika and Zajíčková, Lenka and Buršíková, Vilma and Franta, Daniel and Nečas, David and Bláhová, Olga and Šperka, Jiří},
   article_number = {12-13},
   keywords = {ultrananocrystalline diamond; bias enhanced nucleation; indentation hardness; ellipsometry; FTIR},
   language = {eng},
   issn = {0257-8972},
   journal = {Surface & coatings technology},
   title = {Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges},
   volume = {204},
   year = {2010}
}

TY  - JOUR
ID  - 895715
AU  - Karásková, Monika - Zajíčková, Lenka - Buršíková, Vilma - Franta, Daniel - Nečas, David - Bláhová, Olga - Šperka, Jiří
PY  - 2010
TI  - Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges
JF  - Surface & coatings technology
VL  - 204
IS  - 12-13
SP  - 1997–2001
EP  - 1997–2001
PB  - Elsevier Science
SN  - 02578972
KW  - ultrananocrystalline diamond
KW  - bias enhanced nucleation
KW  - indentation hardness
KW  - ellipsometry
KW  - FTIR
N2  - Ultrananocrystalline diamond (UNCD) films were deposited directly on polished c-Si substrates in microwave discharge (2.45 GHz) combined with rf capacitive plasma (13.56 MHz) ignited at the substrate electrode. The rf discharge induced a dc self-bias accelerating ions towards the growing film during the whole deposition process. The substrate was either preheated in hydrogen discharge to the deposition temperature of 900 C or the deposition of intermediate layer started at about 200 C and reached 900 C in the 5th minute. The latter procedure resulted in the deposition of coating with the hardness of 70 GPa and very good fracture toughness. The analysis of optical measurement in UV-IR range confirmed the presence of 250 nm thick intermediate layer containing DLC and SiC materials.
ER  -

KARÁSKOVÁ, Monika; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Daniel FRANTA; David NEČAS; Olga BLÁHOVÁ a Jiří ŠPERKA. Optical and mechanical characterization of ultrananocrystalline diamond films prepared in dual frequency discharges. \textit{Surface \&{} coatings technology}. Elsevier Science, 2010, roč.~204, 12-13, s.~1997–2001. ISSN~0257-8972.

Přehled o publikaci