D 2010

Investigation of silicon surface wettability after plasma treatment

SKÁCELOVÁ, Dana; Pavel SŤAHEL; Martin HANIČINEC a Mirko ČERNÁK

Základní údaje

Originální název

Investigation of silicon surface wettability after plasma treatment

Autoři

SKÁCELOVÁ, Dana; Pavel SŤAHEL; Martin HANIČINEC a Mirko ČERNÁK

Vydání

Bratislava, HAKONE XII Contributed paper, 307 s. 2010

Nakladatel

Comenius University

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Slovensko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ne

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-89186-71-6

Klíčová slova anglicky

Diffuse coplanar DBD, silicon, plasma treatment
Změněno: 5. 4. 2012 16:39, Mgr. Dana Skácelová, Ph.D.

Anotace

V originále

In this contribution the influence of the plasma on crystalline Si (100) surface was studied. Dielectric barrier discharge the so called Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) to plasma modification was used. The silicon surface modification after plasma treatment was investigated by AFM and contact angle measurement. Different way to clean the surface is reflected on the surface wettability after plasma treatment and the ageing effect of treated surface was studied too.

Návaznosti

KAN101630651, projekt VaV
Název: Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
Investor: Akademie věd ČR, Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek