JAŠEK, Ondřej, Petr SYNEK, Vít KUDRLE, Peter ZELINA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Bohumil DAVID, Naděžda PIZÚROVÁ, Renata HANZLÍKOVÁ a Antonín REK. Nanocrystalline layer deposition by organometallic compound deposition in microwave discharges. In Potential and applications of surface nanotreatment of polymers and glass : Book of Extended Abstracts. 1. vyd. Brno: NANOcontact, Masaryk University, 2010, s. 25.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Nanocrystalline layer deposition by organometallic compound deposition in microwave discharges
Název česky Depozice kovových nanokrystalických vrstvev v mikrovlnných výbojích
Autoři JAŠEK, Ondřej, Petr SYNEK, Vít KUDRLE, Peter ZELINA, Vilma BURŠÍKOVÁ, Bohumil DAVID, Naděžda PIZÚROVÁ, Renata HANZLÍKOVÁ a Antonín REK.
Vydání 1. vyd. Brno, Potential and applications of surface nanotreatment of polymers and glass : Book of Extended Abstracts, s. 25-25, 2010.
Nakladatel NANOcontact, Masaryk University
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky nanocrystalline layer; iron pentacarbonyl; plasma; low-pressure discharge; microwave discharge
Změnil Změnil: Mgr. Peter Zelina, učo 269454. Změněno: 23. 11. 2010 02:26.
Anotace
Microwave plasma torch (2,45 GHz, 300 W power) operating at atmospheric pressure and low pressure (several kPa) surface wave microwave discharge are used for deposition of nanocrystalline layers on various substrates such as silicon or glass. Both discharges are ignited in Ar and organometallic compound is introduced into the discharge. Thin layers are deposited on the substrate placed in direction of the gas flow. In case of microwave plasma torch the deposition temperature is varied from 100 to 700 Celsius degrees. Deposited films are analyzed by scanning electron microscopy (SEM) and energy-dispersive x-ray (EDX) analysis. Mechanical properties of the films are also evaluated.
Anotace česky
Mikrovlnný plasmový torch (2,45 GHz, 300 W) operující při atmosférickém tlaku a nízkotlaký (několik kPa) výboj s povrchovou vlnou boli použité na depozici kovové nanokrystalické vrstvy na substráty jako křemík a sklo. Oba výboje byly zapáleny v argonovém plasmatu a do výboje byla následně přidaná organometalická sloučenina. V připadě plasmového torche se teplota pohybovala od 100 do 700 stupňů Celsia. Deponované filmy byly analyzované skenovacím elektronovým mikroskopem (SEM) a rentgenovou spektroskopií EDX. Určeny byly také mechanické vlastnosti vrstev.
Návaznosti
GA202/08/0178, projekt VaVNázev: Syntéza magnetických nanočástic na bázi Fe v nízkoteplotním mikrovlnném plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Syntéza magnetických nanočástic na bázi Fe v nízkoteplotním mikrovlnném plazmatu
GD104/09/H080, projekt VaVNázev: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 22:50