a 2010

Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering.

SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering.

Název česky

Chování hybridního PVD-PECVD procesu ve srovnání s tradičním reaktivním magnetronovým naprašováním.

Autoři

Vydání

GEC/ICRP 2010, 2010

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Francie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/10:00045789

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISSN

Klíčová slova česky

magnetronové naprašování; hystereze; hybridní PVD-PECVD proces

Klíčová slova anglicky

magnetron sputtering; hysteresis; hybrid PVD-PECVD process
Změněno: 4. 1. 2011 09:48, Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D.

Anotace

V originále

Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. Modelling of hybrid PVD-PECVd process.

Návaznosti

GD104/09/H080, projekt VaV
Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek