Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering.
SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINA. Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. In GEC/ICRP 2010. 2010. ISSN 0003-0503. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. |
Název česky | Chování hybridního PVD-PECVD procesu ve srovnání s tradičním reaktivním magnetronovým naprašováním. |
Autoři | SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí). |
Vydání | GEC/ICRP 2010, 2010. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | angličtina |
Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
Stát vydavatele | Francie |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Kód RIV | RIV/00216224:14310/10:00045789 |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
ISSN | 0003-0503 |
Klíčová slova česky | magnetronové naprašování; hystereze; hybridní PVD-PECVD proces |
Klíčová slova anglicky | magnetron sputtering; hysteresis; hybrid PVD-PECVD process |
Změnil | Změnila: Mgr. Tereza Schmidtová, Ph.D., učo 151253. Změněno: 4. 1. 2011 09:48. |
Anotace |
---|
Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. Modelling of hybrid PVD-PECVd process. |
Návaznosti | |
---|---|
GD104/09/H080, projekt VaV | Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace |
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace | |
GP202/08/P038, projekt VaV | Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev |
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev | |
MSM0021622411, záměr | Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek |
VytisknoutZobrazeno: 13. 10. 2024 06:46