OBERTA, P., Petr MIKULÍK, J. HRDÝ a M. KITTLER. Highly asymmetric Laue focusing monochromator. In SRI 2009: The 10th international conference on synchrotron radiation instrumentation: AIP Conference Proceedings. New York: American Institute of Physics, 2010, s. 724–727. ISBN 978-0-7354-0782-4.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Highly asymmetric Laue focusing monochromator
Autoři OBERTA, P. (703 Slovensko), Petr MIKULÍK (203 Česká republika, garant, domácí), J. HRDÝ (203 Česká republika) a M. KITTLER (203 Česká republika).
Vydání New York, SRI 2009: The 10th international conference on synchrotron radiation instrumentation: AIP Conference Proceedings, od s. 724–727, 4 s. 2010.
Nakladatel American Institute of Physics
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/10:00046322
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-0-7354-0782-4
ISSN 0094-243X
UT WoS 000283705500164
Klíčová slova anglicky diffractive-refractive optics; x-rays; crystals; lens; radiation
Změnil Změnil: doc. RNDr. Petr Mikulík, Ph.D., učo 855. Změněno: 5. 1. 2011 11:11.
Anotace
By using two highly asymmetric Laue crystals in a dispersive arrangement with a circular profile (empty set 8 mm) we have created a sagittaly focusing Laue system for the first time. The crystallographic planes (111) of the two Si crystals formed an angle of 7.95 degrees with the entrance surface. The crystals dimensions were 40 mm x 20 mm and the diffracting surface was a 0.5 mm thick neck between the two circular profiles. The 15.35 keV diffracted beam formed an angle of 0.55 degrees with the exit surface. The calculated focusing distance of the Laue-Laue focusing system was 14 m.
Návaznosti
MSM0021622410, záměrNázev: Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální a chemické vlastnosti pokročilých materiálů a struktur
VytisknoutZobrazeno: 17. 8. 2024 12:39