2010
Density of Mn interstitials in (Ga,Mn)As epitaxial layers determined by anomalous x-ray diffraction
HOLÝ, Václav, Xavier MARTÍ, Lukáš HORÁK, Ondřej CAHA, Vít NOVÁK et. al.Základní údaje
Originální název
Density of Mn interstitials in (Ga,Mn)As epitaxial layers determined by anomalous x-ray diffraction
Název česky
Hustota Mn intersticiálů v GaMnAs určená anomální rtg difrakcí
Autoři
HOLÝ, Václav (203 Česká republika), Xavier MARTÍ (724 Španělsko), Lukáš HORÁK (203 Česká republika), Ondřej CAHA (203 Česká republika, garant, domácí), Vít NOVÁK (203 Česká republika), Miroslav CUKR (203 Česká republika) a Tobias Urs SCHÜLLI (276 Německo)
Vydání
Applied Physics Letters, USA, American Institute of Physics, 2010, 0003-6951
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 3.841
Kód RIV
RIV/00216224:14310/10:00049717
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000283934100025
Klíčová slova česky
feromagnetické polovodičů; anomální rtg difrakce
Klíčová slova anglicky
ferromagnetic semiconductos; anomal x-ray diffraction
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 24. 6. 2020 10:20, Mgr. Marie Šípková, DiS.
V originále
Densities of Mn ions in epitaxial layers of (Ga,Mn)As were determined by anomalous x-ray diffraction, i.e., by a measurement of the dependence of the intensity of weak diffraction 002 on the photon energy around the MnK absorption edge. From the measured data it was possible to determine the density of Mn ions in substitutional positions and the difference in the Mn densities in two possible interstitial positions in the GaAs lattice. The data confirm the previous finding that the density of Mn interstitials in centers of Ga tetrahedrons decrease during post-growth annealing.
Česky
Hustota intersticiálů Mn v GaMnAs byla určena anomální rtg difrakcí, t.j. měřením závislosti intenzity slabé difrakce 002 na energii fotonu kolem K absorpční hrany Mn.
Návaznosti
GP202/09/P410, projekt VaV |
| ||
MSM0021622410, záměr |
|