a 2011

Deposition and analyses of hard and thick well adherent nc-TiC/a-C:H coatings prepared by hybrid PVD-PECVD process

SOUČEK, Pavel, Tereza SCHMIDTOVÁ, Lukáš ZÁBRANSKÝ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Petr VAŠINA et. al.

Základní údaje

Originální název

Deposition and analyses of hard and thick well adherent nc-TiC/a-C:H coatings prepared by hybrid PVD-PECVD process

Autoři

SOUČEK, Pavel (203 Česká republika, domácí), Tereza SCHMIDTOVÁ (203 Česká republika, domácí), Lukáš ZÁBRANSKÝ (203 Česká republika, domácí), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí), Mojmír JÍLEK (203 Česká republika), Abdelaziz EL MEL (250 Francie), Pierre-Yves TESSIER (250 Francie), Jan SCHÄFER (276 Německo) a Jiří BURŠÍK (203 Česká republika)

Vydání

E-MRS 2011 Spring Meeting, 2011

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Francie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/11:00049789

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

nanocomposite; titanium; carbon; sputtering
Změněno: 6. 1. 2012 10:38, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

Deposition and analyses of hard and thick well adherent nc-TiC/a-C:H coatings prepared by hybrid PVD-PECVD process. Severeal micrometers thick coatings with hardness over 45 GPa and Young's modulus over 400 GPa was reached.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GD104/09/H080, projekt VaV
Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek