Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in
thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic
reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry

J 2011

Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry

OHLÍDAL, Ivan; Miloslav OHLÍDAL; David NEČAS; Daniel FRANTA; Vilma BURŠÍKOVÁ et al.

Základní údaje

Originální název

Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry

Autoři

OHLÍDAL, Ivan; Miloslav OHLÍDAL; David NEČAS; Daniel FRANTA a Vilma BURŠÍKOVÁ

Vydání

Thin Solid Films, Elsevier, 2011, 0040-6090

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10306 Optics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Impakt faktor

Impact factor: 1.890

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/11:00050720

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

https://doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069

UT WoS

000289174200067

Klíčová slova anglicky

Optical characterisation; Non-uniform films; Spectroscopic ellipsometry; Spectroscopic reflectometry; Spectroscopic imaging reflectometry

Štítky

AKR, rivok

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

Změněno: 20. 4. 2012 10:24, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

The combined opticalmethod enabling us to performthe complete optical characterisation of weakly absorbing non-uniform thin films is described. This method is based on the combination of standard variable angle spectroscopic ellipsometry, standard spectroscopic reflectometry at near normal incidence and spectroscopic imaging reflectometry applied at normal incidence. The spectral dependences of the optical constants are determined using the non-imaging methods with using the dispersion model based on parametrisation of density of electronic states. The local thickness distribution is then determined by imaging reflectometry. The method is illustrated by means of the complete optical characterisation of SiOxCyHzthin films.

Návaznosti

FT-TA5/114, projekt VaV

Název: Vývoj technologie vytváření PECVD vrstev pro výrobu automobilové světelné techniky

Investor: Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR, Vývoj technologie vytváření PECVD vrstev pro výrobu automobilové světelné techniky

MSM0021622411, záměr

Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Citovat

OHLÍDAL, Ivan; Miloslav OHLÍDAL; David NEČAS; Daniel FRANTA a Vilma BURŠÍKOVÁ. Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry. Thin Solid Films. Elsevier, 2011, roč. 519, č. 9, s. 2874-2876. ISSN 0040-6090. Dostupné z: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069.

@article{940438,
   author = {Ohlídal, Ivan and Ohlídal, Miloslav and Nečas, David and Franta, Daniel and Buršíková, Vilma},
   article_number = {9},
   doi = {https://doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069},
   keywords = {Optical characterisation; Non-uniform films; Spectroscopic ellipsometry; Spectroscopic reflectometry; Spectroscopic imaging reflectometry},
   language = {eng},
   issn = {0040-6090},
   journal = {Thin Solid Films},
   title = {Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry},
   url = {http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069},
   volume = {519},
   year = {2011}
}

TY  - JOUR
ID  - 940438
AU  - Ohlídal, Ivan - Ohlídal, Miloslav - Nečas, David - Franta, Daniel - Buršíková, Vilma
PY  - 2011
TI  - Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry
JF  - Thin Solid Films
VL  - 519
IS  - 9
SP  - 2874-2876
EP  - 2874-2876
PB  - Elsevier
SN  - 00406090
KW  - Optical characterisation
KW  - Non-uniform films
KW  - Spectroscopic ellipsometry
KW  - Spectroscopic reflectometry
KW  - Spectroscopic imaging reflectometry
UR  - http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069
L2  - http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069
N2  - The combined opticalmethod enabling us to performthe complete optical characterisation of weakly absorbing non-uniform thin films is described. This method is based on the combination of standard variable angle spectroscopic ellipsometry, standard spectroscopic reflectometry at near normal incidence and spectroscopic imaging reflectometry applied at normal incidence. The spectral dependences of the optical constants are determined using the non-imaging methods with using the dispersion model based on parametrisation of density of electronic states. The local thickness distribution is then determined by imaging reflectometry. The method is illustrated by means of the complete optical characterisation of SiOxCyHzthin films.
ER  -

OHLÍDAL, Ivan; Miloslav OHLÍDAL; David NEČAS; Daniel FRANTA a Vilma BURŠÍKOVÁ. Optical characterisation of SiOxCyHz thin films non-uniform in thickness using spectroscopic ellipsometry, spectroscopic reflectometry and spectroscopic imaging reflectometry. \textit{Thin Solid Films}. Elsevier, 2011, roč.~519, č.~9, s.~2874-2876. ISSN~0040-6090. Dostupné z: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2010.12.069.

Přehled o publikaci