Study of hybrid PVD–PECVD process of Ti sputtering in argon and
acetylene

J 2011

Study of hybrid PVD–PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene

SCHMIDTOVÁ, Tereza, Pavel SOUČEK, Petr VAŠINA a Jan SCHÄFER

Základní údaje

Originální název

Study of hybrid PVD–PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene

Autoři

SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí) a Jan SCHÄFER (203 Česká republika)

Vydání

Surface & Coatings Technology, Elsevier Science, 2011, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Impakt faktor

Impact factor: 1.867

Kód RIV

RIV/00216224:14310/11:00049862

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.02.047

UT WoS

000293258600064

Klíčová slova anglicky

Hybrid PVD–PECVD process; Reactive magnetron sputtering; Hysteresis; Modelling

Štítky

AKR, rivok

Změněno: 22. 7. 2024 10:16, Mgr. Marie Šípková, DiS.

Anotace

V originále

Hybrid PVD–PECVD process of target sputtering in hydrocarbon containing atmosphere combines aspects of both conventional reactive magnetron sputtering (PVD) and plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). Such process is being typically used for deposition of metal carbides embedded in hydrogenated carbon matrix. Compared to the conventional co-sputtering of metal and carbon targets, in the hybrid deposition process the source of the carbon is dissociated hydrocarbon vapour in plasma. The aim of this paper is to study the extent of similarities or differences between this hybrid process and the conventional reactive magnetron sputtering. We have chosen the sputtering of titanium target in acetylene containing atmosphere as a representative of the hybrid processes. We focused on experimental measurements of the hybrid PVD–PECVD process behaviour, the time necessary for the process to achieve steady-state conditions and basic modelling of the process.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV

Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy

GD104/09/H080, projekt VaV

Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace

Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace

GP202/08/P038, projekt VaV

Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev

Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev

MSM0021622411, záměr

Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek

Citovat

SCHMIDTOVÁ, Tereza, Pavel SOUČEK, Petr VAŠINA a Jan SCHÄFER. Study of hybrid PVD–PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene. Surface & Coatings Technology. Elsevier Science, 2011, roč. 205, July, s. S299-S302, 4 s. ISSN 0257-8972. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.02.047.

@article{944539,
   author = {Schmidtová, Tereza and Souček, Pavel and Vašina, Petr and Schäfer, Jan},
   article_number = {July},
   doi = {http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.02.047},
   keywords = {Hybrid PVD–PECVD process; Reactive magnetron sputtering; Hysteresis; Modelling},
   language = {eng},
   issn = {0257-8972},
   journal = {Surface & Coatings Technology},
   title = {Study of hybrid PVD–PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene},
   url = {https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0257897211001472?via%3Dihub},
   volume = {205},
   year = {2011}
}

TY  - JOUR
ID  - 944539
AU  - Schmidtová, Tereza - Souček, Pavel - Vašina, Petr - Schäfer, Jan
PY  - 2011
TI  - Study of hybrid PVD–PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene
JF  - Surface & Coatings Technology
VL  - 205
IS  - July
SP  - S299-S302
EP  - S299-S302
PB  - Elsevier Science
SN  - 02578972
KW  - Hybrid PVD–PECVD process
KW  - Reactive magnetron sputtering
KW  - Hysteresis
KW  - Modelling
UR  - https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0257897211001472?via%3Dihub
N2  - Hybrid PVD–PECVD process of target sputtering in hydrocarbon containing atmosphere combines aspects of both conventional reactive magnetron sputtering (PVD) and plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). Such process is being typically used for deposition of metal carbides embedded in hydrogenated carbon matrix. Compared to the conventional co-sputtering of metal and carbon targets, in the hybrid deposition process the source of the carbon is dissociated hydrocarbon vapour in plasma. The aim of this paper is to study the extent of similarities or differences between this hybrid process and the conventional reactive magnetron sputtering. We have chosen the sputtering of titanium target in acetylene containing atmosphere as a representative of the hybrid processes. We focused on experimental measurements of the hybrid PVD–PECVD process behaviour, the time necessary for the process to achieve steady-state conditions and basic modelling of the process.
ER  -

SCHMIDTOVÁ, Tereza, Pavel SOUČEK, Petr VAŠINA a Jan SCHÄFER. Study of hybrid PVD–PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene. \textit{Surface \&{} Coatings Technology}. Elsevier Science, 2011, roč.~205, July, s.~S299-S302, 4 s. ISSN~0257-8972. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.02.047.

Podrobný výpis o publikaci