2011
Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge
SCHÄFER, Jan; Stefan HORN; Rüdiger FOEST; Ronny BRANDENBURG; Petr VAŠINA et al.Základní údaje
Originální název
Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge
Název česky
Komplexní analýza SiOxCyHz vrstev deponovaných APDBD
Autoři
SCHÄFER, Jan; Stefan HORN; Rüdiger FOEST; Ronny BRANDENBURG; Petr VAŠINA a Klaus-Dieter WELTMANN
Vydání
Surface & Coatings Technology, Elsevier Science, 2011, 0257-8972
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Švýcarsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 1.867
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/11:00052854
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
Klíčová slova anglicky
SILVER NANOPARTICLES; PLASMA; JET
Změněno: 20. 4. 2012 10:38, Ing. Andrea Mikešková
V originále
SiOx films are deposited with an atmospheric pressure dielectric barrier discharge (apDBD) using Ar, O2 and different precursor gases (HMDSO and Silane).An experimental study on the influence of the discharge operation parameters on the chemical composition of the deposited films and the vertical structure over the film thickness is carried out by means of SEM, EDX, and ATR–FTIR.
Česky
SiOx vrstvy byly připraveny s využitím atmosférického DBD výboje z HMDSO a silanu. Byla provedena studie vlivu parametrů výboje na složení, mikrostrukturu a tloušťku vrstvy.
Návaznosti
| MSM0021622411, záměr |
|