2011
Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene
SCHMIDTOVÁ, Tereza, Pavel SOUČEK a Petr VAŠINAZákladní údaje
Originální název
Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene
Autoři
SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí)
Vydání
30th ICPIG Conference Proceedings, 2011
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Konferenční abstrakt
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Velká Británie a Severní Irsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Kód RIV
RIV/00216224:14310/11:00049988
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky
hybridní PVD-PECVD proces, magnetronové naprašování, hystereze, OES
Klíčová slova anglicky
hybrid PVD-PECVD process; magnetron sputtering; hysteresis; OES
Změněno: 6. 1. 2012 10:45, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.
Anotace
V originále
Hybrid PVD-PECVD process of titanium sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon fragments polymerization (PECVD). It has been used for deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix with good mechanical properties. The aim of this contribution is to describe and understand basic processes influencing the deposition process of such films by comparing the behaviour of basic discharge parameters on acetylene supply flow. Hybrid sputtering driven by DC power alone and together with RF substrate bias is studied.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV |
| ||
GD104/09/H080, projekt VaV |
| ||
GP202/08/P038, projekt VaV |
| ||
MSM0021622411, záměr |
|