a 2011

Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene

SCHMIDTOVÁ, Tereza, Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene

Autoři

SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí)

Vydání

30th ICPIG Conference Proceedings, 2011

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Kód RIV

RIV/00216224:14310/11:00049988

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

hybridní PVD-PECVD proces, magnetronové naprašování, hystereze, OES

Klíčová slova anglicky

hybrid PVD-PECVD process; magnetron sputtering; hysteresis; OES
Změněno: 6. 1. 2012 10:45, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

Hybrid PVD-PECVD process of titanium sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon fragments polymerization (PECVD). It has been used for deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix with good mechanical properties. The aim of this contribution is to describe and understand basic processes influencing the deposition process of such films by comparing the behaviour of basic discharge parameters on acetylene supply flow. Hybrid sputtering driven by DC power alone and together with RF substrate bias is studied.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GD104/09/H080, projekt VaV
Název: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
GP202/08/P038, projekt VaV
Název: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek