SCHMIDTOVÁ, Tereza, Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA. Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene. In 30th ICPIG Conference Proceedings. 2011.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Experimental study of hybrid PVD-PECVD process of metallic target sputtering in argon and acetylene
Autoři SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání 30th ICPIG Conference Proceedings, 2011.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/11:00049988
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky hybridní PVD-PECVD proces, magnetronové naprašování, hystereze, OES
Klíčová slova anglicky hybrid PVD-PECVD process; magnetron sputtering; hysteresis; OES
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D., učo 175085. Změněno: 6. 1. 2012 10:45.
Anotace
Hybrid PVD-PECVD process of titanium sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon fragments polymerization (PECVD). It has been used for deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix with good mechanical properties. The aim of this contribution is to describe and understand basic processes influencing the deposition process of such films by comparing the behaviour of basic discharge parameters on acetylene supply flow. Hybrid sputtering driven by DC power alone and together with RF substrate bias is studied.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GD104/09/H080, projekt VaVNázev: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
GP202/08/P038, projekt VaVNázev: Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 06:38