SKÁCELOVÁ, Dana, Pavel SŤAHEL, Martin HANIČINEC, Pavlína BAŘINKOVÁ a Mirko ČERNÁK. Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků. In Czech RE Agency,o.p.s. Sborník příspěvků z 5. České fotovoltaické konference. Brno: Neuveden, 2010, s. 45-49. ISBN 978-80-254-8906-2.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků
Název česky Povrchová plazmová úprava krystalických křemíkových desek určených pro výrobu solárních článků
Název anglicky Plasma treatment of crystalline silicon wafers for production of solar cells
Autoři SKÁCELOVÁ, Dana (203 Česká republika, garant, domácí), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika, domácí), Martin HANIČINEC (703 Slovensko, domácí), Pavlína BAŘINKOVÁ (203 Česká republika) a Mirko ČERNÁK (203 Česká republika, domácí).
Vydání Brno, Sborník příspěvků z 5. České fotovoltaické konference, od s. 45-49, 5 s. 2010.
Nakladatel Neuveden
Další údaje
Originální jazyk čeština
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/10:00049477
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-254-8906-2
Klíčová slova česky Krystalický křemík atmosférické plazma plazmová modifikace povrchu
Klíčová slova anglicky Crystalline silicon atmospheric pressure plasma surface modification
Štítky AKb, rivok
Změnil Změnila: Mgr. Dana Skácelová, Ph.D., učo 106528. Změněno: 5. 4. 2012 16:42.
Anotace
Předkládaný článek se zabývá možností využití plazmatu za atmosférického tlaku v oblasti polovodičového průmyslu, převážně pak v oblasti výroby solárních článků. Byl zkoumán vliv Difúzního Koplanárního Povrchového Výboje (DSCBD - Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge) na změnu povrchových vlastností krystalických křemíkových desek odebraných v různých fázích výroby solárních článků. Zjistilo se, že tato úprava dokonale hydrofilizuje všechny studované povrchy (texturované, leštěné, SOX, Si3N4, po difúzi…). Volná povrchová energie byla studována metodou kontaktních úhlů.
Anotace anglicky
Contribution focused to application of atmospheric plasma in semiconductor industry, especially in production of solar cells. Plasma modification of surface properties of silicon wafers by DCSBD was investigated. This process makes all surfaces totaly wettable. Surface free energy was studied by contact angle measurement.
Návaznosti
KAN101630651, projekt VaVNázev: Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
Investor: Akademie věd ČR, Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 27. 4. 2024 01:04