SCHMIDTOVÁ, Tereza, Pavel SOUČEK a Petr VAŠINA. Understanding of hybrid PVD-PECVD deposition process – titanium magnetron sputtering in argon and acetylene. Online. In Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass. 2011, [citováno 2024-04-24]
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Understanding of hybrid PVD-PECVD deposition process – titanium magnetron sputtering in argon and acetylene
Autoři SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí)
Vydání Potential and Applications of Surface Nanotreatment of Polymers and Glass, 2011.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/11:00050094
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky magnetron sputtering; hybrid PVD-PECVD; deposition process
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D., učo 175085. Změněno: 6. 1. 2012 10:43.
Anotace
Hybrid PVD-PECVD process of titanium magnetron sputtering in argon and acetylene atmosphere combines aspects of both conventional techniques: sputtering of titanium target (PVD) and acetylene as a source of carbon for polymerization (PECVD). It has been used for deposition of nanocomposite material consisting of nanocrystallites of titanium carbide embedded in hydrogenated carbon matrix (nc-TiC/a-C:H) which is an industrially attractive material for protective coatings. The aim of this contribution is to describe and understand elementary processes influencing the deposition process. Evolution of discharge voltage and current, pressure and selected spectral line intensities as a function of acetylene supply flow is reported.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GD104/09/H080, projekt VaVNázev: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 24. 4. 2024 10:43