2011
Mechanical Properties of Ultrananocrystalline Thin Films Deposited Using Dual Frequency Discharges
BURŠÍKOVÁ, Vilma; Olga BLÁHOVÁ; Monika KARÁSKOVÁ; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Ondřej JAŠEK et al.Základní údaje
Originální název
Mechanical Properties of Ultrananocrystalline Thin Films Deposited Using Dual Frequency Discharges
Název česky
Mechanické vlastnosti ultrananokrystalickýh tenkých vrstev deponovaných pomocí dvoufrekvenčního výboje
Autoři
BURŠÍKOVÁ, Vilma; Olga BLÁHOVÁ; Monika KARÁSKOVÁ; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Ondřej JAŠEK; Daniel FRANTA; Petr KLAPETEK a Jiří BURŠÍK
Vydání
CHEMICKÉ LISTY, Praha, Česká společnost chemická, 2011, 0009-2770
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 0.529
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/11:00049530
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
Klíčová slova česky
ultrananokrystalický diamand; plasmatem iniciovaná depozice z plynné fáze; dvoufrekvenční výboj; lokální mechanické vlastnosti
Klíčová slova anglicky
ultrananocrystalline diamond; plasma enhanced chemical vapor deposition; dual frequency discharge; local mechanical properties
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 14. 3. 2014 10:21, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
V originále
The present paper describes the deposition of nanostruc- tured diamond films with low surface roughness, high hard- ness and fracture toughness by microwave PECVD in the ASTeX type reactor from mixture of methane and hydrogen. Films were deposited on a mirror polished (111) oriented n- doped silicon substrate. The film exhibited relatively low roughness, the root mean square (RMS) of heights ranged from 20 to 9.1 nm, depending on the deposition conditions. The hardness was found to be in the range from 22 to 65 GPa and the elastic modulus ranged from 220 to 375 GPa, depend- ing on the film structure
Česky
Práce popisuje depozici nanostrukturních diamantových vrstev s nízkou povrchovou drsností, vysokou tvrdostí a odolností vůči zlomu. Ta byla prováděna metodou mikrovlného PECVD v reaktoru typu ASTeX. Užitými plyny byly vodík a metan
Návaznosti
| GA202/07/1669, projekt VaV |
| ||
| KAN311610701, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|