2011
Measurement of the thickness distribution and optical constants of non-uniform thin films
OHLÍDAL, Miloslav; Ivan OHLÍDAL; Petr KLAPETEK; David NEČAS; Abhijit MAJUMDAR et al.Základní údaje
Originální název
Measurement of the thickness distribution and optical constants of non-uniform thin films
Název česky
Měření rozdělení tloušťek a optických konstant neuniformních tenkých vrstev
Autoři
OHLÍDAL, Miloslav; Ivan OHLÍDAL; Petr KLAPETEK; David NEČAS a Abhijit MAJUMDAR
Vydání
Measurement Science and Technology, Bristol, England, IOP Publishing, 2011, 0957-0233
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10306 Optics
Stát vydavatele
Velká Británie a Severní Irsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 1.494
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/11:00050733
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
Klíčová slova česky
neuniformní tenké vrstvy; zobrazovací spektroskopická reflektometrie; rozdělení lokální tloušťky
Klíčová slova anglicky
non-uniform thin films; imaging spectroscopic reflectometry; distribution of the local thickness
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 23. 3. 2012 13:19, Mgr. David Nečas, Ph.D.
Anotace
V originále
In this paper, an original method for the complete optical characterization of thin films exhibiting area thickness non-uniformity is presented. This method is based on interpreting experimental data obtained using an original imaging spectroscopic photometer operating in the reflection mode at normal incidence of light. A CCD camera is employed as a detector of the photometer. The spectral dependences of the reflectance measured simultaneously by individual pixels of the CCD camera correspond to the local reflectance of small areas of the non-uniform thin films characterized. These areas form a matrix along a relatively large part of the substrate covered with the non-uniform film. The spectral dependences of the local reflectance measured by the individual pixels are treated separately by means of the formulae for the reflectance valid for uniform thin films. The reason is that the local areas corresponding to the pixels are sufficiently small so that the film characterized can be considered to be uniform within these local areas. Using this approach, it is possible to determine the values of the local thickness and local optical constants for every small area of the matrix. Thus, in principle it is possible to determine the distributions (maps) of the local thickness and the local optical constants of the non-uniform films simultaneously. This method is used to characterize carbon-nitride thin films exhibiting only the thickness area non-uniformity.
Návaznosti
| FR-TI1/168, projekt VaV |
| ||
| FT-TA5/114, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|