J 2011

Generation of a high-density highly non-equilibrium air plasma for high-speed large-area flat surface processing

ČERNÁK, Mirko; Dušan KOVÁČIK; Jozef RÁHEĽ; Pavel SŤAHEL; Anna ZAHORANOVÁ et al.

Základní údaje

Originální název

Generation of a high-density highly non-equilibrium air plasma for high-speed large-area flat surface processing

Název česky

Generování vysoce nerovnovážného plazmatu ve vzduchu s vysokou hustotou výkonu využitelného pro úpravu vysokorychlostních velkoplošných rovnných povrchů

Autoři

ČERNÁK, Mirko; Dušan KOVÁČIK; Jozef RÁHEĽ; Pavel SŤAHEL; Anna ZAHORANOVÁ; Jana KUBINCOVÁ; A. TÓHT a Ľudmila ČERNÁKOVÁ

Vydání

Plasma Physics and Controlled Fusion, Bristol,UK, Institute of Physics Publishing, 2011, 0741-3335

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 2.731

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/11:00050734

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

Klíčová slova česky

plasma vzduch velkoplošné vzorky

Klíčová slova anglicky

plasma air large area

Štítky

Změněno: 3. 4. 2013 11:24, doc. RNDr. Jozef Ráheľ, PhD.

Anotace

V originále

A new plasma source, the so called diffuse coplanar surface barrier discharge (DCSBD), is described. DCSBD allows a visually diffuse highdensity ‘cold’ plasma to be sustained in atmospheric-pressure air at a high plasma power density exceeding 100W/cm3 that permits high speed surface processing of large-area webs and flat surfaces. This is demonstrated by the results on a successful in line activation of thin polypropylene fabric at 450m/min and plasma exposures as short as 0.14 s. DCSBD basic features resulting in the observed high efficiency of plasma activation and the related plasmachemical mechanism are discussed briefly.

Návaznosti

CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MU
Název: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
2A-3TP1/126, projekt VaV
Název: Kontinuální plazmatické a nano-plazmatické úpravy pro netkané textilie (Upozornění: toto je validní verze přihlášky projektu, dříve podaná přihláška evidovaná pod ID 2A-3TP1/074 je neplatná !)
Investor: Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR, Kontinuální plazmatické a nano-plazmatické úpravy pro netkané textilie