2011
Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes
DVOŘÁK, Pavel; Radek ŽEMLIČKA; Petr VAŠINA a Vilma BURŠÍKOVÁZákladní údaje
Originální název
Application of higher harmonic frequencies generated in RF plasmas for monitoring of deposition processes
Název česky
Aplikace vyšších harmonických frekvencí vznikajících ve vf. plazmatu pro monitorování depozičních procesů
Autoři
Vydání
Potential and Application of Nanotreatment of amedical Surfaces, 2011
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Konferenční abstrakt
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/11:00050417
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky
vyšší harmonické frekvence; kapacitně vázané výboje
Klíčová slova anglicky
higher harmonic frequencies; capacitively coupled discharges
Změněno: 26. 1. 2012 14:23, doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D.
V originále
Higher harmonic frequencies of discharge voltage or current were analyzed and used for monitoring of various deposition techniques. It was shown that higher harmonics sensitively react on creation of a thin film, which can be used for simple monitoring of plasma processes.
Česky
Analýza vyšších harmonických frekvencí vznikajících ve vf. plazmatu s ohledem na jejich využití při monitorování plazmových procesů.
Návaznosti
| GA202/07/1669, projekt VaV |
| ||
| MSM0021622411, záměr |
|