Measurement of hydroxyl (OH) concentration in an atmospheric radiofrequency discharge by laser ...
VORÁČ, Jan, Vojtěch PROCHÁZKA a Pavel DVOŘÁK. Measurement of hydroxyl (OH) concentration in an atmospheric radiofrequency discharge by laser induced fluorescence. In Potential and Application of Nanotreatment of Medical Surfaces. 2012. ISBN 978-80-7372-890-8. |
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
Základní údaje | |
---|---|
Originální název | Measurement of hydroxyl (OH) concentration in an atmospheric radiofrequency discharge by laser induced fluorescence |
Název česky | Měření koncentrace hydroxylových (OH) radikálů v atmosférickém vysokofrekvenčním výboji pomocí laserem indukované fluorescence |
Autoři | VORÁČ, Jan (203 Česká republika, domácí), Vojtěch PROCHÁZKA (203 Česká republika, domácí) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika, garant, domácí). |
Vydání | Potential and Application of Nanotreatment of Medical Surfaces, 2012. |
Další údaje | |
---|---|
Originální jazyk | angličtina |
Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
Stát vydavatele | Česká republika |
Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
Kód RIV | RIV/00216224:14310/12:00060778 |
Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
ISBN | 978-80-7372-890-8 |
Klíčová slova česky | plazmová tužka; hydroxyl; OH; LIF |
Klíčová slova anglicky | plasma pencil; hydroxyl; OH; LIF |
Změnil | Změnil: Mgr. Jan Voráč, Ph.D., učo 175282. Změněno: 20. 3. 2013 09:45. |
Anotace |
---|
The OH concentration in a plasma pencil, an atmospheric RF plasma jet, was measured by laser induced fluorescence. The OH concentration was found to be in the order of 10^20 m^-3. |
Anotace česky |
---|
Měření koncentrace OH radikálů metodou LIF v plazmové tužce. |
Návaznosti | |
---|---|
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MU | Název: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy |
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra | |
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV | Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy |
VytisknoutZobrazeno: 12. 5. 2024 09:11