-
KLANG, Pavel a Václav HOLÝ. X-ray diffuse scattering from stacking faults in Czochralski silicon. Semicond. Sci. Technol. Velká Britanie: IOP Publishing Ltd, 2006, roč. 21, č. 3, s. 352-357. ISSN 0268-1242.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/630434/cs