-
Thermal stability of amorphous Nb/Si multilayers studied by x-ray reflection J - Článek v odborném periodikuBOCHNÍČEK, Zdeněk; Ivo VÁVRA a Václav HOLÝ. Thermal stability of amorphous Nb/Si multilayers studied by x-ray reflection. Bulletin Krystalografické společnosti Materials Structure. 1999, roč. 6, č. 1, s. 57. ISSN 1211-5895.Podrobněji: https://is.muni.cz/publication/346842/cs