2012
THE EFFECT OF SURFACE CLEANING AND REMOVING OF ORGANIC CONTAMINANTS FROM SILICON SUBSTRATES AND ITO GLASS BY ATMOSPHERIC PRESSURE NON-THERMAL PLASMA
MEDVECKÁ, Veronika; Anna ZAHORANOVÁ; Dušan KOVÁČIK a Ján GREGUŠZákladní údaje
Originální název
THE EFFECT OF SURFACE CLEANING AND REMOVING OF ORGANIC CONTAMINANTS FROM SILICON SUBSTRATES AND ITO GLASS BY ATMOSPHERIC PRESSURE NON-THERMAL PLASMA
Autoři
MEDVECKÁ, Veronika; Anna ZAHORANOVÁ; Dušan KOVÁČIK a Ján GREGUŠ
Vydání
CHEMICKÉ LISTY, Praha, Česká společnost chemická, 2012, 0009-2770
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 0.453
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/12:00064658
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
Klíčová slova anglicky
DCSBD; silicon substrates; ITO glass;cleaning; organic contaminants
Změněno: 4. 4. 2013 11:04, Mgr. Dana Skácelová, Ph.D.
Anotace
V originále
Plasma generated by DCSBD was investigated for cleaning and removing of organic contaminants from semiconductor materials. ITO glass used in photovoltaics and three types of most often used silicon surfaces in semiconductor industry – precleaned silicon, thermally oxidized silicon and H-terminated silicon was studied. The changes in chemical bonds on silicon surfaces were investigated by FTIR. Removing of IPA from silicon substrates was observed by XPS measurements. Effectivity of DCSBD as cleaning agent in comparison with isopropylacohol was investigated on ITO glass samples by XPS measurement.
Návaznosti
| ED2.1.00/03.0086, projekt VaV |
|