FEKETE, Matej, Jaroslav HNILICA, Catalin VITELARU, Tiberiu MINEA a Petr VAŠINA. Time resolved study of Ti sputtered species number densities in multi-pulse HiPIMS discharge. In Fifteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition 2016. 2016.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Time resolved study of Ti sputtered species number densities in multi-pulse HiPIMS discharge
Autoři FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Catalin VITELARU (642 Rumunsko), Tiberiu MINEA (250 Francie) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání Fifteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition 2016, 2016.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Belgie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00088421
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky HiPIMS; OES; titanium
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: Mgr. Matej Fekete, Ph.D., učo 376265. Změněno: 10. 7. 2017 14:53.
Anotace
A technique based on effective branching fractions was extended to determine the absolute ground state number densities of Ti atoms and Ti ions. The effective branching method was cross validated by TD-LAS technique while studying the dc magnetron sputtering discharge. Influence of preceding pulse on the subsequent pulse in the m-HiPIMS mode was examined as a function of delay (200µs, 400µs and 1500µs) between two successive pulses for the pulse duration of 200µs.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 12. 5. 2024 22:36