FEKETE, Matej, Jaroslav HNILICA, Pavel SOUČEK, Lukáš ZÁBRANSKÝ a Petr VAŠINA. Temporal evolution of Ti sputtered species number densities in multi-pulse HiPIMS process. In SVC TechCon 2017. ISSN 0737-5921. 2017.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Temporal evolution of Ti sputtered species number densities in multi-pulse HiPIMS process
Autoři FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí), Lukáš ZÁBRANSKÝ (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání SVC TechCon 2017, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00094831
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISSN 0737-5921
Klíčová slova anglicky m-HiPIMS; EBF; titanium
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: Mgr. Matej Fekete, Ph.D., učo 376265. Změněno: 31. 1. 2018 18:25.
Anotace
The aim of this paper is to study the temporal evolutions of sputtered species number densities during a preceding (P) and a subsequent (S) pulse in a multi-pulse HiPIMS. The Ti atom number density does not reach the maximum at the time of the maximal discharge current. It is shown that the residual particles from the P pulse are presented at the beginning of the S pulse even for the longest studied delay between the P and the S pulse. The ionization fractions of sputtered species attained at the end of the S pulses are always lower compared to the P pulse. The coatings produced by multi-pulse HiPIMS exhibited decreased roughness and increased hardness in comparison with standard HiPIMS and DC magnetron sputtered coating.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 28. 3. 2024 18:24