a 2017

Temporal evolution of Ti sputtered species number densities in multi-pulse HiPIMS process

FEKETE, Matej; Jaroslav HNILICA; Pavel SOUČEK; Lukáš ZÁBRANSKÝ; Petr VAŠINA et al.

Základní údaje

Originální název

Temporal evolution of Ti sputtered species number densities in multi-pulse HiPIMS process

Autoři

Vydání

SVC TechCon 2017, 2017

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00094831

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISSN

Klíčová slova anglicky

m-HiPIMS; EBF; titanium

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 31. 1. 2018 18:25, Mgr. Matej Fekete, Ph.D.

Anotace

V originále

The aim of this paper is to study the temporal evolutions of sputtered species number densities during a preceding (P) and a subsequent (S) pulse in a multi-pulse HiPIMS. The Ti atom number density does not reach the maximum at the time of the maximal discharge current. It is shown that the residual particles from the P pulse are presented at the beginning of the S pulse even for the longest studied delay between the P and the S pulse. The ionization fractions of sputtered species attained at the end of the S pulses are always lower compared to the P pulse. The coatings produced by multi-pulse HiPIMS exhibited decreased roughness and increased hardness in comparison with standard HiPIMS and DC magnetron sputtered coating.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaV
Název: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy