a 2018

The role of applied bias on the properties of HiPIMS deposited nc-TiC/a-C:H coatings

SOUČEK, Pavel, Jaroslav HNILICA, Lukáš ZÁBRANSKÝ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Monika STUPAVSKÁ et. al.

Základní údaje

Originální název

The role of applied bias on the properties of HiPIMS deposited nc-TiC/a-C:H coatings

Autoři

SOUČEK, Pavel (203 Česká republika, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Lukáš ZÁBRANSKÝ (203 Česká republika, domácí), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Monika STUPAVSKÁ (703 Slovensko, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí)

Vydání

16th International Conference on Plasma Surface Engineering, 2018

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/18:00103777

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

nanocomposites; HiPIMS; magnetron sputtering

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 24. 9. 2018 08:14, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

Nanocomposite coatings consisting of nanocrystallites embedded in an amorphous matrix such as nc-TiC/a-C:H can be tailored to exhibit an unusual combination of properties like high hardness and elastic modulus combined with low friction and wear. These coatings are usually deposited utilising direct current magnetron sputtering (DCMS) leading to low ionisation of the sputtered titanium and to lower Ar+ ion bombardment impinging the growing coating. The ion bombardment of the substrates is routinely enhanced via increasing the energy of the bombarding ions due to the application of a negative bias onto the samples. The use of high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) usually leads to much higher ionisation of the sputtered titanium which can alter the deposition process and to more severe ion bombardment of the growing coating changing the properties of the deposited coatings.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy