SOUČEK, Pavel, Jaroslav HNILICA, Lukáš ZÁBRANSKÝ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Monika STUPAVSKÁ a Petr VAŠINA. The role of applied bias on the properties of HiPIMS deposited nc-TiC/a-C:H coatings. In 16th International Conference on Plasma Surface Engineering. 2018.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název The role of applied bias on the properties of HiPIMS deposited nc-TiC/a-C:H coatings
Autoři SOUČEK, Pavel (203 Česká republika, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Lukáš ZÁBRANSKÝ (203 Česká republika, domácí), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Monika STUPAVSKÁ (703 Slovensko, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání 16th International Conference on Plasma Surface Engineering, 2018.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/18:00103777
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky nanocomposites; HiPIMS; magnetron sputtering
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D., učo 175085. Změněno: 24. 9. 2018 08:14.
Anotace
Nanocomposite coatings consisting of nanocrystallites embedded in an amorphous matrix such as nc-TiC/a-C:H can be tailored to exhibit an unusual combination of properties like high hardness and elastic modulus combined with low friction and wear. These coatings are usually deposited utilising direct current magnetron sputtering (DCMS) leading to low ionisation of the sputtered titanium and to lower Ar+ ion bombardment impinging the growing coating. The ion bombardment of the substrates is routinely enhanced via increasing the energy of the bombarding ions due to the application of a negative bias onto the samples. The use of high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) usually leads to much higher ionisation of the sputtered titanium which can alter the deposition process and to more severe ion bombardment of the growing coating changing the properties of the deposited coatings.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 14. 5. 2024 01:59