a 2020

Effect of nitrogen on sputtered species number densities evolution in reactive HiPIMS

BERNÁTOVÁ, Katarína; Matej FEKETE; Peter KLEIN; Jaroslav HNILICA; Petr VAŠINA et al.

Základní údaje

Originální název

Effect of nitrogen on sputtered species number densities evolution in reactive HiPIMS

Název česky

Vplyv prietoku dusíka na hustotu rozprášených častíc v reaktívnom HiPIMS

Autoři

Vydání

Workshop on Plasma-Based Synthesis of Nanomaterials, 2020

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ne

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

reaktivní HiPIMS; hustota částic; titan; ionizační stupeň

Klíčová slova anglicky

reactive HiPIMS; density; titanium; ionized density fraction
Změněno: 29. 4. 2021 18:58, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

Adding a reactive gas into the HiPIMS process opens up a new alley of producing novel materials with a wide range of different compositions. The temporal evolution of the absolute number of the sputtered titanium atoms and ions, the ionized density fraction in the target region and the ion flux in the substrate region in reactive HiPIMS process for different partial pressures of the reactive gas are presented in this contribution.

Česky

Pridaním reaktívneho plynu do HiPIMS procesu vznikajú nové možnosti deponovať nové typy materiálov s rôznym zložením. V tomto príspevku bola skúmaná časová závislosť hustoty rozprášených titánových atómov, iónov a ionizačného stupňa titánu v oblasti blízko povrchu terča a taktiež toku iónov na substrát v reaktívnom HiPIMS výboji.

Návaznosti

GA19-00579S, projekt VaV
Název: Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
LM2018097, projekt VaV
Název: Centrum výzkumu a vývoje plazmatu a nanotechnologických povrchových úprav (Akronym: CEPLANT)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications