BERNÁTOVÁ, Katarína, Matej FEKETE, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA. Effect of nitrogen on sputtered species number densities evolution in reactive HiPIMS. In Workshop on Plasma-Based Synthesis of Nanomaterials. 2020.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Effect of nitrogen on sputtered species number densities evolution in reactive HiPIMS
Název česky Vplyv prietoku dusíka na hustotu rozprášených častíc v reaktívnom HiPIMS
Autoři BERNÁTOVÁ, Katarína, Matej FEKETE, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA.
Vydání Workshop on Plasma-Based Synthesis of Nanomaterials, 2020.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW Workshop zameraný na nanomateriály pripravené plazmovými metódami za nízkeho alebo atmosferického tlaku.
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky reaktivní HiPIMS; hustota částic; titan; ionizační stupeň
Klíčová slova anglicky reactive HiPIMS; density; titanium; ionized density fraction
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 29. 4. 2021 18:58.
Anotace
Adding a reactive gas into the HiPIMS process opens up a new alley of producing novel materials with a wide range of different compositions. The temporal evolution of the absolute number of the sputtered titanium atoms and ions, the ionized density fraction in the target region and the ion flux in the substrate region in reactive HiPIMS process for different partial pressures of the reactive gas are presented in this contribution.
Anotace česky
Pridaním reaktívneho plynu do HiPIMS procesu vznikajú nové možnosti deponovať nové typy materiálov s rôznym zložením. V tomto príspevku bola skúmaná časová závislosť hustoty rozprášených titánových atómov, iónov a ionizačného stupňa titánu v oblasti blízko povrchu terča a taktiež toku iónov na substrát v reaktívnom HiPIMS výboji.
Návaznosti
GA19-00579S, projekt VaVNázev: Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
LM2018097, projekt VaVNázev: Centrum výzkumu a vývoje plazmatu a nanotechnologických povrchových úprav (Akronym: CEPLANT)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 06:26