1998
Oblique roughness replication in strained SiGe/Si multilayers
HOLÝ, Václav; A.A. DARHUBER; J. STANGL; G. BAUER; J. NUETZEL et. al.Základní údaje
Originální název
Oblique roughness replication in strained SiGe/Si multilayers
Autoři
HOLÝ, Václav; A.A. DARHUBER; J. STANGL; G. BAUER; J. NUETZEL a G. ABSTREITER
Vydání
Physical Review B, USA, The American Physical Society, 1998, 0163-1829
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 2.842
Kód RIV
RIV/00216224:14310/98:00000758
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000073761500094
Změněno: 20. 3. 2000 06:49, prof. RNDr. Václav Holý, CSc.
Návaznosti
| MSM 143100002, záměr |
|