2000
Deposition of nanocomposite CNx/SiO films in inductively coupled r.f. discharge
ELIÁŠ, Marek; Lenka ZAJÍČKOVÁ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Jan JANČA; Michal LORENC et. al.Základní údaje
Originální název
Deposition of nanocomposite CNx/SiO films in inductively coupled r.f. discharge
Autoři
ELIÁŠ, Marek (203 Česká republika, garant); Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika); Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika); Jan JANČA (203 Česká republika) a Michal LORENC (203 Česká republika)
Vydání
Diamond and Related Materials, New York, Elsevier Science S.A. 2000, 0925-9635
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 1.591
Kód RIV
RIV/00216224:14310/00:00002461
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
Carbon; Ellipsometry; Nitrides; Mechanical properties
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 7. 2007 17:40, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.
Anotace
V originále
Nanocomposite CNx/SiO thin films
Návaznosti
GV106/96/K245, projekt VaV |
| ||
ME 301, projekt VaV |
| ||
ME 367, projekt VaV |
| ||
MSM 143100003, záměr |
| ||
OC 527.20, projekt VaV |
| ||
VS96084, projekt VaV |
|