BROŽEK, V., V. DUFEK, Jan JANČA a L. LAPČÍK. Reduction of ATP precursors in capacvitive RF discharge plasma reactor. In ŠARMAN, L. 14th International Congress, CHISA 2000, Prague, August 2000. Praha: Czech Society of Chemical Engineering, 2000, s. 139. J3.5. ISBN 80-86059-30-8.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Reduction of ATP precursors in capacvitive RF discharge plasma reactor
Autoři BROŽEK, V., V. DUFEK, Jan JANČA a L. LAPČÍK.
Vydání Praha, 14th International Congress, CHISA 2000, Prague, August 2000, s. 139-139, J3.5, 2000.
Nakladatel Czech Society of Chemical Engineering
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/00:00002474
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 80-86059-30-8
Klíčová slova anglicky reduction; tungsten trioxide; ammoniumparatungstate; capacitive coupled; plasma
Štítky ammoniumparatungstate, capacitive coupled, plasma, reduction, tungsten trioxide
Změnil Změnil: prof. RNDr. Jan Janča, DrSc., učo 29. Změněno: 22. 2. 2001 16:54.
Anotace
The production of tungsten powder is based on precursors which in the first phase of thermic decomposition pass to tungsten trioxide. The subsequent reduction by hydrogen affects the morphology as well as granulometry of the tungsten produced. The contribution deals with the utilisation of plasmachemical decomposition and the activation of ammoniumparatungstate (APT) products in capacitively excited hydrogen plasma.
Návaznosti
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaVNázev: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
VS96084, projekt VaVNázev: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
VytisknoutZobrazeno: 12. 5. 2024 21:27