OHLÍDAL, Ivan a Daniel FRANTA. Ellipsometry of Thin Film Systems. In Progress in Optics, Vol. 41 (Ed. E. Wolf). 1. vyd. Amsterdam: Elsevier, 2000. s. 181-282. ISBN 0-444-568-7.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Ellipsometry of Thin Film Systems
Autoři OHLÍDAL, Ivan (203 Česká republika, garant) a Daniel FRANTA (203 Česká republika).
Vydání 1. vyd. Amsterdam, Progress in Optics, Vol. 41 (Ed. E. Wolf), od s. 181-282, 102 s. 2000.
Nakladatel Elsevier
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Kapitola resp. kapitoly v odborné knize
Obor 10306 Optics
Stát vydavatele Nizozemsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/00:00002671
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 0-444-568-7
UT WoS 000290881300003
Změnil Změnil: Mgr. Daniel Franta, Ph.D., učo 2000. Změněno: 22. 12. 2003 00:43.
Anotace
In this paper, a review of both the important theoretical and experimental results concerning ellipsometry is presented.
Návaznosti
GA202/98/0988, projekt VaVNázev: Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod
Investor: Grantová agentura ČR, Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod
VS96084, projekt VaVNázev: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
VytisknoutZobrazeno: 28. 5. 2022 07:16