Ellipsometry of Thin Film Systems

OHLÍDAL, Ivan a Daniel FRANTA. Ellipsometry of Thin Film Systems. In Progress in Optics, Vol. 41 (Ed. E. Wolf). 1. vyd. Amsterdam: Elsevier, 2000, s. 181-282. ISBN 0-444-568-7.

Základní údaje

Originální název

Ellipsometry of Thin Film Systems

Autoři

OHLÍDAL, Ivan a Daniel FRANTA

Vydání

1. vyd. Amsterdam, Progress in Optics, Vol. 41 (Ed. E. Wolf), od s. 181-282, 102 s. 2000

Nakladatel

Elsevier

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Kapitola resp. kapitoly v odborné knize

Obor

10306 Optics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/00:00002671

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

0-444-568-7

UT WoS

000290881300003

---

Anotace

V originále

In this paper, a review of both the important theoretical and experimental results concerning ellipsometry is presented.

---

Návaznosti

GA202/98/0988, projekt VaV	Název: Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod Investor: Grantová agentura ČR, Charakterizace vrstevnatých systémů s náhodně drsnými rozhraními pomocí optických a rtg metod
VS96084, projekt VaV	Název: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze