J 2001

Thermal stability of partially crystalline Nb/Si multilayers

BOCHNÍČEK, Zdeněk a Ivo VÁVRA

Základní údaje

Originální název

Thermal stability of partially crystalline Nb/Si multilayers

Autoři

Vydání

J. Phys. D: Appl. Phys. 2001, 0022-3727

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 1.260

Kód RIV

RIV/00216224:14310/01:00004219

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000169093700045

Klíčová slova anglicky

Thermal stability; x-ray reflection; interdiffusion; multilayers

Štítky

Změněno: 29. 5. 2001 16:52, doc. RNDr. Zdeněk Bochníček, Dr.

Anotace

V originále

The thermal stability of [Nb(6.0 nm)/Si(2.0 nm)*50 (*100) multilayers with partially crystalline Nb sublayer deposited onto an (001) oxidized Si wafer has been studied by in situ x-ray reflectivity, ex situ x-ray diffraction, transmission electron microscopy and measurement of low temperature resistivity in annealing at the temperature range up to 450degC. It has been shown that the annealing leads to interface shift without any significant change of interface roughness, which was explained by the diffusion of Si atoms into Nb sublayer. The densification of the multilayer was attributed to creation of Nb3Si phase at Nb/Si interface; presence of this phase was proved by electron diffraction. Annealing up to 250degC has practically no influence on superconductivity of the system though the structure changes are well detectable.

Návaznosti

GA202/98/0569, projekt VaV
Název: Sledování teplotní stability vrstevnatých systémů vysokorozlišujícími metodami rtg difrakce a optické reflexe rtg záření při žíhání in situ
Investor: Grantová agentura ČR, Sledování teplotní stability vrstevnatých systémů vysokorozlišujícími metodami rtg difrakce a optické reflexe rtg záření při žíhání in situ
VS96102, projekt VaV
Název: Laboratoř tenkých vrstev a nanostruktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Laboratoř tenkých vrstev a nanostruktur