ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Pavel DVOŘÁK, Vilma BURŠÍKOVÁ, Vratislav PEŘINA, Anna MACKOVÁ, Vladislav NAVRÁTIL a Jan JANČA. Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds. In Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry. Orleans (France): GREMI, CNRS/University of Orleans, 2001, s. 133-138.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds
Autoři ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika), Vratislav PEŘINA (203 Česká republika), Anna MACKOVÁ, Vladislav NAVRÁTIL (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika).
Vydání Orleans (France), Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry, s. 133-138, 2001.
Nakladatel GREMI, CNRS/University of Orleans
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Francie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/01:00004510
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky PECVD; Diamod-like carbon; Hardness; Optical emission spectroscopy ; ion density;
Štítky Diamod-like carbon, hardness, ion density, optical emission spectroscopy, PECVD
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 17. 7. 2007 17:44.
Anotace
Low pressure deposition of hard carbon films with addition of silicon and oxide was carried out in the mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). Film properties like deposition rate, hardness and optical constants depended strongly on tbe HMDSO to methane ratio. Moreover, the self bias voltage at the powered electrode, on which the substrates were placed, depended on this ratio too. Therefore, the plasma parameters were studied by OES and capacitavely coupled planar ion flux probe. It was found, that the temperatures as well as positive ion current density depended on the HMDSO to methane flow rate ratio but not on the self bias voltage that was independently changed with an external dc voltage supply.
Návaznosti
GA202/00/P037, projekt VaVNázev: Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
ME 301, projekt VaVNázev: Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
ME 367, projekt VaVNázev: Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Výzkum a vývoj supertvrdých nanokrystalických kompositních materiálů
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
OC 527.20, projekt VaVNázev: Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Plazmochemické depozice a plazmochemické opracování povrchu pevných substrátů
VytisknoutZobrazeno: 19. 9. 2024 04:39