2003
Atomic force microscopy characterization of ZnTe epitaxial thin films
KLAPETEK, Petr; Ivan OHLÍDAL; Alberto MONTAIGNE-RAMIL; Alberta BONANNI; David STIFTER et al.Základní údaje
Originální název
Atomic force microscopy characterization of ZnTe epitaxial thin films
Autoři
KLAPETEK, Petr; Ivan OHLÍDAL; Alberto MONTAIGNE-RAMIL; Alberta BONANNI; David STIFTER a Helmut SITTER
Vydání
Japanese Journal of Applied Physics, Tokyo, Institute of Pure and Applied Physics, 2003, 0021-4922
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Japonsko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 1.171
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/03:00008287
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
Klíčová slova anglicky
ZnTe epitaxial films; AFM analysis; faceted boundaries
Změněno: 12. 11. 2003 15:29, Mgr. Petr Klapetek, Ph.D.
Anotace
V originále
In this paper, results concerning atomic force microscopy studies of the upper bounaries of ZnTe epitaxial thin films prepared by molecular beam epitaxy onto gallium arsenide single crystal substrates are presented. It is sohw that the upper boundaries exhibit faceted structure which is described by means of statistical analysis.
Návaznosti
| GA101/01/1104, projekt VaV |
| ||
| GA202/01/1110, projekt VaV |
|