Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma

DE POUSQUES, Ludovic; Jean-Christiphe IMBERT; Petr VAŠINA; Caroline BOISSE-LAPORTE; Lionel TEULE-GAY a Michel TOUZEAU. Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma. In Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering. Garmisch-Partenkirchen, Germany: Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering, 2004, s. 23.

Základní údaje

Originální název

Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma

Název česky

Srovnani ionizacni ucinnosti dvou IPVD procesu: magnetronoveho vyboje s dodatecnym mikrovlnnym nebo RF vybojem

Autoři

DE POUSQUES, Ludovic; Jean-Christiphe IMBERT; Petr VAŠINA; Caroline BOISSE-LAPORTE; Lionel TEULE-GAY a Michel TOUZEAU

Vydání

Garmisch-Partenkirchen, Germany, Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering, s. 23-23, 2004

Nakladatel

Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/04:00024540

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

IPVD; microwave; RF; magnetron

Štítky

IPVD, magnetron, microwave, RF

---

Anotace

V originále

The objective of this work is to compare two IPVD processes developed in our laboratory, in particular the ionization efficiency of each system

Česky

Cilem teto prace je srovnat dva IPVD procesu, zejmena ionizacni potencial kazdeho z nich

---

Návaznosti

GD202/03/H162, projekt VaV	Název: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
MSM 143100003, záměr	Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek