B 2005

Electrical Properties of Plasma Deposited Thin Films

FRANCLOVÁ, Jana, Zuzana KUČEROVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ

Základní údaje

Originální název

Electrical Properties of Plasma Deposited Thin Films

Název česky

Elektrické vlastnosti tenkých vrstev vytvořených PECVD

Autoři

FRANCLOVÁ, Jana (203 Česká republika, garant), Zuzana KUČEROVÁ (203 Česká republika) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika)

Vydání

1. vyd. Praha, 4 s. WDS 05, Proceedings of Contributed Papers, Part II, 2005

Nakladatel

MATFYZPRESS

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Odborná kniha

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00014316

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

80-86732-59-2

Klíčová slova anglicky

PECVD; Thin Films; Electrical Properties

Štítky

Změněno: 21. 5. 2009 09:24, Mgr. Jana Meixnerová, Ph.D.

Anotace

ORIG CZ

V originále

It is well known that MIM structures exhibit various high-field processes, which may be either electrode-limited (e.g. tunneling, Schottky-barrier emission) or bulk-limited (e.g. space-charge-limited conduction, Poole-Frenkel conduction). Thin films prepared using PECVD exhibited Pool-Frenkel conductivity (Schottky conductivity) at lower voltages and Fowler-Nordheim tunneling at higher voltages.

Česky

MIM struktury vykazují různé vodivostní mechanismy,které lze rozdělit do dvou základních skupin "electrode-limited" a "bulk-limited" mechanismy. Tenké vrstvy vytvořené PECVD vykazují Poole-Frenkelovu vodivost při nižších napětích a Fowler-Nordheimovu při vyšších napětích.

Návaznosti

MSM0021622411, záměr
Název: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek