Detailed Information on Publication Record
2005
Electrical Properties of Plasma Deposited Thin Films
FRANCLOVÁ, Jana, Zuzana KUČEROVÁ and Vilma BURŠÍKOVÁBasic information
Original name
Electrical Properties of Plasma Deposited Thin Films
Name in Czech
Elektrické vlastnosti tenkých vrstev vytvořených PECVD
Authors
FRANCLOVÁ, Jana (203 Czech Republic, guarantor), Zuzana KUČEROVÁ (203 Czech Republic) and Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic)
Edition
1. vyd. Praha, 4 pp. WDS 05, Proceedings of Contributed Papers, Part II, 2005
Publisher
MATFYZPRESS
Other information
Language
English
Type of outcome
Odborná kniha
Field of Study
10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher
Czech Republic
Confidentiality degree
není předmětem státního či obchodního tajemství
RIV identification code
RIV/00216224:14310/05:00014316
Organization unit
Faculty of Science
ISBN
80-86732-59-2
Keywords in English
PECVD; Thin Films; Electrical Properties
Tags
Změněno: 21/5/2009 09:24, Mgr. Jana Meixnerová, Ph.D.
V originále
It is well known that MIM structures exhibit various high-field processes, which may be either electrode-limited (e.g. tunneling, Schottky-barrier emission) or bulk-limited (e.g. space-charge-limited conduction, Poole-Frenkel conduction). Thin films prepared using PECVD exhibited Pool-Frenkel conductivity (Schottky conductivity) at lower voltages and Fowler-Nordheim tunneling at higher voltages.
In Czech
MIM struktury vykazují různé vodivostní mechanismy,které lze rozdělit do dvou základních skupin "electrode-limited" a "bulk-limited" mechanismy. Tenké vrstvy vytvořené PECVD vykazují Poole-Frenkelovu vodivost při nižších napětích a Fowler-Nordheimovu při vyšších napětích.
Links
| MSM0021622411, plan (intention) |
|