FRANCLOVÁ, Jana, Zuzana KUČEROVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Electrical Properties of Plasma Deposited Thin Films. 1. vyd. Praha: MATFYZPRESS, 2005, 4 s. WDS 05, Proceedings of Contributed Papers, Part II. ISBN 80-86732-59-2.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Electrical Properties of Plasma Deposited Thin Films
Název česky Elektrické vlastnosti tenkých vrstev vytvořených PECVD
Autoři FRANCLOVÁ, Jana (203 Česká republika, garant), Zuzana KUČEROVÁ (203 Česká republika) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika).
Vydání 1. vyd. Praha, 4 s. WDS 05, Proceedings of Contributed Papers, Part II, 2005.
Nakladatel MATFYZPRESS
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Odborná kniha
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/05:00014316
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 80-86732-59-2
Klíčová slova anglicky PECVD; Thin Films; Electrical Properties
Štítky electrical properties, PECVD, thin films
Změnil Změnila: Mgr. Jana Meixnerová, Ph.D., učo 13309. Změněno: 21. 5. 2009 09:24.
Anotace
It is well known that MIM structures exhibit various high-field processes, which may be either electrode-limited (e.g. tunneling, Schottky-barrier emission) or bulk-limited (e.g. space-charge-limited conduction, Poole-Frenkel conduction). Thin films prepared using PECVD exhibited Pool-Frenkel conductivity (Schottky conductivity) at lower voltages and Fowler-Nordheim tunneling at higher voltages.
Anotace česky
MIM struktury vykazují různé vodivostní mechanismy,které lze rozdělit do dvou základních skupin "electrode-limited" a "bulk-limited" mechanismy. Tenké vrstvy vytvořené PECVD vykazují Poole-Frenkelovu vodivost při nižších napětích a Fowler-Nordheimovu při vyšších napětích.
Návaznosti
MSM0021622411, záměrNázev: Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 19. 6. 2024 17:01