D 2005

Optical measurement of mechanical stresses in diamond-like carbon films

OHLÍDAL, Ivan; Miloslav OHLÍDAL; Daniel FRANTA; Vladimír ČUDEK; Vilma BURŠÍKOVÁ et al.

Základní údaje

Originální název

Optical measurement of mechanical stresses in diamond-like carbon films

Název česky

Optické měření mechanického napětí v diamatu podobných vrstvách

Autoři

OHLÍDAL, Ivan; Miloslav OHLÍDAL; Daniel FRANTA; Vladimír ČUDEK; Vilma BURŠÍKOVÁ a Petr KLAPETEK

Vydání

Bellingham, Washington, USA, 8-th International Symposium on Laser Metrology, od s. 717-728, 12 s. 2005

Nakladatel

SPIE - The International Society for Optical Engineering

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/05:00013025

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

0-8194-5757-4

Klíčová slova anglicky

DLC films; mechanical stress; two-beam interferometry; chromatic aberration method
Změněno: 3. 2. 2006 17:44, Mgr. Daniel Franta, Ph.D.

Anotace

V originále

In this paper the mechanical stresses taking place in diamond like thin films prepared by the plasma enhanced chemical vapor deposition onto silicon single crystal substrates are studied. For determination of the stress values the Stoney's formula is used. The values of the film thicknesses are determined using the combined method of variable angle spectroscopic ellipsometry and near-normal spectroscopic reflectometry. The values of the curvature radii of the deformed silicon substrates in consequence of the film stresses are evaluated using interferometric method based on two-beam interferometry and chromatic aberration method. The dependence of the mechanical stress inside these films on their thickness values is determined. It is found that this dependence can be approximate by the straight-line. The results achieved for the mechanical stresses obtained by both the optical methods, i.e. by the interferometric and chromatic aberration method, are compared. It is shown that within the experimental accuracy the stress values determined using both these method are identical. Thus, it is shown that the chromatic aberration method is suitable for measuring the mechanical stresses inside the thin solid films and it is the competitive method for the other optical methods utilized for this purpose so far.

Česky

V tomto článkujsou studována mechanická napětí existující v diamantu podobných vrstvách připravených plasmaticky podporovanou chemickou deposicí v parách na podložky z monokrystalického křemíku. Pro určení těchto napětí je využita Stoneyova formule. Hodnoty tlouštěk vrstev jsou určeny pomocí kombinované metody víceúhlové spektroskopické elipsometrie a téměř kolmé spektroskopické reflektometrie. Hodnoty poloměrů křivosti deformovaných podložek křemíku v důsledku napětí ve vrstvách jsou určeny pomocí použitím metody dvoupaprskové interferometrie a metody chromatické aberace. Je určena závislost mechanického napětí uvnitř vrstev na jejich tloušťce. Nalezli jsme, že tato závislost může být aproximována přímkou. Výsledky týkající se mechanických napětí ve vrstvách dosažené oběma optickými metodami, tj. interferometrickou metodou a metodou chromatické aberace, jsou srovnány. Ukázali jsme, že v rámci experimentální přesnosti jsou hodnoty mechanického napětí určené oběma metodami identické. Ukázali jsme tedy, že metoda chromatické aberace je vhodnou konkurenční metodou pro jiné optické metody využitelné pro tento účel.

Návaznosti

GA101/04/2131, projekt VaV
Název: Realizace laboratorního digitálního spektrofotometru pro širokou spektrální oblast
Investor: Grantová agentura ČR, Realizace laboratorního digitálního spektrofotometru pro širokou spektrální oblast
MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek